ZEISS EVO 系列代表了扫描电镜技术的最新进展。带圆锥形物镜的新型高分辨率Optibeam多模式镜筒提供广大应用范围的超级影像解决，并且使EVO成为当前最有效的分析型扫描电镜。新的XVP（扩展可变压力）能力超过其他VP和LV仪器的限制，保护生命科学、药物学、地质学样品的缩水损伤。超低真空模式可提供高达3000Pa的压力，使得动态过程的时时观察成为可能。独特的升级模式保证EVO能不断发展满足未来的需要。
■XVP 用于非导体样品
■业界领先的X-射线分析技术
■专用低真空二次电子探测器用于XVP下二次电子成像
■未来升级模式满足新的要求
■BeamSleeve精确分析非导体
■专用EVO50波谱和EVO50拉曼系统
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EVO 系列基本规格 |
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分辨率 |
3.0nm @ 30kV(W) 2.0nm @ 30kV(LaB6) 4.5nm @ 30kV(XVP 模式) |
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加速电压 |
0.2—30kV, 10V步进连续可调 |
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放大倍数 |
7—1000000倍 |
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X-射线参数 |
8.5mm WD，35度接收角 |
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OptiBeam模式 |
分析、大视野、分辨率和景深 |
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XVP压力范围 |
5—750Pa，空气或水蒸气 |
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超低真空压力范围 |
5—3000Pa，空气或水蒸气 |
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影像处理 |
7种积分和平均模式 |
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系统控制 |
基于Windows XP 的SmartSEM | |
